特許

J-GLOBAL ID：200903065651827531

洗浄剤組成物

発明者： 岡田 万佐夫 ,  今西 正樹 ,  中川 登志子
出願人/特許権者： メツク株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-315247
公開番号（公開出願番号）：特開平5-125395
出願日： 1991年11月05日
公開日（公表日）： 1993年05月21日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、プリント基板製造時における任意の工程で基板上に残留するフラックスおよび再融解液を洗浄するための、洗浄剤組成物を供するものである。【構成】 本発明の洗浄剤組成物は、グリーコール系溶剤、アミン類および/または界面活性剤、必要に応じて水を含有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

プリント基板製造時における任意の工程で基板上に残留するフラックスおよび再融解液を洗浄するための、グリコール系溶剤、アミン類および/または界面活性剤からなる洗浄剤組成物。

IPC (6件)：

C11D 7/50 ,  B23K 1/00 ,  H05K 3/26 ,  H05K 3/34 ,  C11D 7:26 ,  C11D 7:32