特許

J-GLOBAL ID：200903065657312193

洗浄装置

発明者： 吉元 康彦
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 佐々木 功 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-038491
公開番号（公開出願番号）：特開2002-246357
出願日： 2001年02月15日
公開日（公表日）： 2002年08月30日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、例えば、半導体ウェーハを薬液で洗浄する洗浄装置に関すし、フィルターの交換時期を適切に把握して交換頻度を延長させ、洗浄装置のフィルター交換に伴う停止時間を削減することが課題である。【解決手段】 フィルターを有する循環ラインによって洗浄液を洗浄槽に循環させて対象物を洗浄する洗浄装置であって、前記循環ラインは主循環ラインと副循環ラインとが配設され、洗浄液の流れを前記主循環ラインと副循環ラインとに切替える制御装置が設けられている洗浄装置Aとすることである。

請求項（抜粋）：

フィルターを有する循環ラインによって洗浄液を洗浄槽に循環させて対象物を洗浄する洗浄装置であって、前記循環ラインは主循環ラインと副循環ラインとが配設され、洗浄液の流れを前記主循環ラインと副循環ラインとに切替える制御装置が設けられていること、を特徴とする洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/04

FI (3件)：

H01L 21/304 648 F ,  H01L 21/304 648 K ,  B08B 3/04 Z

Fターム (4件)：

3B201AA03 ,  3B201BB02 ,  3B201BB94 ,  3B201CD22