特許
J-GLOBAL ID：200903065657637785
投影露光装置及び投影光学系の光学特性測定方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平木 祐輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-065056
公開番号（公開出願番号）：特開平10-261567
出願日： 1997年03月18日
公開日（公表日）： 1998年09月29日
要約：
【要約】【課題】 前記基板ステージの走り特性による誤差及びウェハホルダーのフラットネス特性による誤差を補正して投影光学系の光学特性を測定する。【解決手段】 基板ステージ22の走り特性及び基板ホルダ24のフラットネスに起因した浮き沈み量のデータを予め測定し、投影露光装置内の記憶装置23に記憶しておく。投影光学系PLの光学特性測定時には、基板ステージの走り特性に起因して基板ステージの浮き沈みが発生しない様に、基板ステージのZ方向位置を補正する。
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターンを感光基板上に投影する投影光学系と、前記基板を保持して2次元的に移動する基板ステージと、前記基板ステージの位置を検出する位置検出手段とを備えた投影露光装置において、前記基板ステージの移動に起因する前記基板ステージに関する前記投影光学系の光軸方向の変位量を検出する変位量検出手段と、前記変位量検出手段の検出結果と、前記位置検出手段が検出した前記基板ステージの位置とを対応させて記憶する記憶手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 516 Z
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 516 C
