特許

J-GLOBAL ID：200903065665732924

ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩の製造方法

発明者： 青山 武嗣 ,  後藤 寿一
出願人/特許権者： 東亞合成株式会社
代理人 (2件)： 小島 清路 ,  谷口 直也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-163469
公開番号（公開出願番号）：特開2004-010508
出願日： 2002年06月04日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：

【課題】生産性が高く、高純度のジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩(DAM)の製造方法を提供する。【解決手段】本発明のDAMの製造方法は、DAM水溶液を反応溶媒として含む反応器に、ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート、沸点が25°C以下の4級化剤及び水を供給することにより、DAMを製造する方法であって、上記反応器内の反応液の質量に対して0.06〜1.1質量%の供給速度で上記ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレートを上記反応器に供給し、且つ下記式(1)で示される水を使用して測定された物質移動容量係数KLaが10(1/h)以上となる条件で反応を行う(式(1)中、Csは飽和溶存酸素濃度、Cはt(h)での溶存酸素濃度、C0はt=0での溶存酸素濃度を示す。)。-ln〔(Cs-C)/(Cs-C0)〕=KLa・t (1)【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩水溶液を反応溶媒として含む反応器に、ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート、沸点が25°C以下の4級化剤及び水を供給することにより、ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩を製造する方法であって、上記反応器内の反応液の質量に対して0.06〜1.1質量%の供給速度で上記ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレートを上記反応器に供給し、且つ水を使用して測定された物質移動容量係数が10(1/h)以上となる条件で反応を行うことを特徴とするジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩の製造方法。

IPC (2件)：

C07C219/08 ,  C07C213/08

FI (2件)：

C07C219/08 ,  C07C213/08

Fターム (11件)：

4H006AA02 ,  4H006AC52 ,  4H006BB31 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BC18 ,  4H006BC30 ,  4H006BD20 ,  4H006BD80 ,  4H006BT12 ,  4H006BU50

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-095053
  
• 特開昭52-031016
  
• 液体攪拌装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-319455   出願人：大日本インキ化学工業株式会社