特許

J-GLOBAL ID：200903065672553059

キセロゲル、その製法および用途

発明者： ロルフ- ミヒヤエル・ヤンセン ,  アンドレアス・ツイムマーマン ,  エリック・ジャキノ ,  ダグラス・エム・スミス
出願人/特許権者： ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 江崎 光史 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-309101
公開番号（公開出願番号）：特開平7-257918
出願日： 1994年12月13日
公開日（公表日）： 1995年10月09日
要約：

【要約】【目的】 キセロゲル、その製法および用途の提供【構成】 本発明は、キセロゲルと称される変性SiO2 ゲルの製法およびこのように製造したキセロゲルそれ自体およびその用途に関する。キセロゲルは、水ガラス水溶液の酸性化、塩基の添加によるこのように生成したケイ酸を重合し、ゲルを有機溶剤を用いて洗浄し、ゲルからの大部分の水を除去し、ゲルとシリル化剤を反応させ、次に-30ないし200°Cおよび0.001ないし20バ-ルで乾燥することににより製造される。

請求項（抜粋）：

キセロゲルを製造する方法において、a)水ガラス水溶液を酸性イオン交換樹脂または鉱酸によって≦2.2のpHとし、b)得られるシリカを塩基の添加により重合してSiO2 ゲルを得そして、工程a)において鉱酸を使用する場合には、そのゲルを水で洗浄して電解質を除き、c)工程b)において得られるゲルを、含水率が≦5重量%になるまで、有機溶剤で洗浄し、d)工程c)において得られるゲルをシリル化剤と反応させそしてe)工程d)において得られるシリル化ゲルを-30ないし200°Cおよび0.001ないし20バ-ルにおいて乾燥することを特徴とする方法。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭58-145614
  
• 特開平2-304299