特許
J-GLOBAL ID：200903065686402657
金属ケイ素の処理方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-198121
公開番号（公開出願番号）：特開平9-025112
出願日： 1995年07月11日
公開日（公表日）： 1997年01月28日
要約：
【要約】【解決手段】 金属ケイ素を非酸化性ガス雰囲気下において1150°C以上の温度域で処理する方法において、この処理によって生じる排ガスをガス排気管内に1100°C以上の温度を保持して流通させると共に、この1100°C以上に保持した排ガスを一酸化ケイ素トラップ装置に導入し、このトラップ装置で1100°C未満に急冷して、上記排ガス中の一酸化ケイ素を上記トラップ装置内で析出除去することを特徴とする金属ケイ素の処理方法。【効果】 本発明によれば、ガス排気管内壁への一酸化ケイ素の析出・付着によるガス排気管の閉塞を防止でき、安定定常運転を可能とするものである。
請求項（抜粋）：
金属ケイ素を非酸化性ガス雰囲気下において1150°C以上の温度域で処理する方法において、この処理によって生じる排ガスをガス排気管内に1100°C以上の温度を保持して流通させると共に、この1100°C以上に保持した排ガスを一酸化ケイ素トラップ装置に導入し、このトラップ装置で1100°C未満に急冷して、上記排ガス中の一酸化ケイ素を上記トラップ装置内で析出除去することを特徴とする金属ケイ素の処理方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C01B 33/02 Z
, C01B 21/068 D
