特許

J-GLOBAL ID：200903065724105521

有機膜のレーザー加工方法

発明者： 梅谷 雅規 ,  鈴木 和雄
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社 ,  タカノ株式会社
代理人 (8件)： 韮澤 弘 ,  阿部 龍吉 ,  蛭川 昌信 ,  白井 博樹 ,  内田 亘彦 ,  菅井 英雄 ,  青木 健二 ,  米澤 明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-017588
公開番号（公開出願番号）：特開2004-226903
出願日： 2003年01月27日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：

【課題】デフォーカスにより紫外レーザー光の任意のガウスビーム形状を発生させて、その強度分布が傾斜している部分を利用してなだらかなスロープ形状の断面形状を得る。【解決手段】有機材料薄膜からなる有機膜1をレーザービーム3照射によりパターニングする有機膜1のレーザー加工方法において、レーザービーム3として紫外レーザービームを用い、そのレーザービームの収束点Fを有機膜1の面に対してデフォーカスすることによって、レーザービームによって加工された有機膜の開口4の断面形状をスロープ状に形成する有機膜のレーザー加工方法。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

有機材料薄膜からなる有機膜をレーザービーム照射によりパターニングする有機膜のレーザー加工方法において、前記レーザービームとして紫外レーザービームを用い、そのレーザービームの収束点を前記有機膜の面に対してデフォーカスすることによって、前記レーザービームによって加工された前記有機膜の断面形状をスロープ状に形成することを特徴とする有機膜のレーザー加工方法。

IPC (4件)：

G02B5/30 ,  B23K26/00 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14

FI (4件)：

G02B5/30 ,  B23K26/00 G ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (23件)：

2H049BA06 ,  2H049BA18 ,  2H049BA42 ,  2H049BB42 ,  2H049BC05 ,  2H049BC13 ,  2H049BC22 ,  2H091FA08 ,  2H091FC01 ,  2H091FC23 ,  2H091FC29 ,  2H091FD04 ,  2H091LA30 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4E068AC01 ,  4E068CA01 ,  4E068CA03 ,  4E068CA11 ,  4E068CE03 ,  4E068DA09 ,  4E068DB07