特許

J-GLOBAL ID：200903065724832334

DMSO含有水の処理装置及び半導体工場排水の処理設備

発明者： 重田 公成 ,  河上 恒雄
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-162714
公開番号（公開出願番号）：特開2000-350993
出願日： 1999年06月09日
公開日（公表日）： 2000年12月19日
要約：

【要約】【課題】 DMSO(ジメチルスルホキシド)含有排水を効率的に処理する。【解決手段】 第1の処理手段と第2の処理手段とガス処理手段とを備えるDMSO含有水の処理装置。第1の処理手段の還元剤添加手段でDMSOをDMSないしH2S,MMに還元し、生成したDMS,H2S,MMを第2の処理手段の過酸化水素添加手段で酸化して硫酸イオンにまで分解する。DMSO含有排水に還元剤を添加する第1の処理手段1と、還元剤添加手段の処理水と過酸化水素含有排水とを接触させる第2の処理手段7とを備えてなる半導体工場排水の処理設備。

請求項（抜粋）：

DMSOを含む排水が導入される第1の処理手段と、この第1の処理手段の処理水が導入される第2の処理手段と、該第1の処理手段及び/又は第2の処理手段で発生したガスを処理するガス処理手段とを備えてなるDMSO含有水の処理装置において、該第1の処理手段が還元剤添加手段であり、該第2の処理手段が酸化剤添加手段であり、かつ酸化剤は過酸化水素であることを特徴とするDMSO含有水の処理装置。

IPC (4件)：

C02F 1/72 ,  B01D 53/38 ,  B01D 53/77 ,  C02F 1/70

FI (3件)：

C02F 1/72 Z ,  C02F 1/70 Z ,  B01D 53/34 116 D

Fターム (27件)：

4D002AB02 ,  4D002BA02 ,  4D002BA04 ,  4D002DA41 ,  4D002DA52 ,  4D002EA02 ,  4D002GA03 ,  4D002GB09 ,  4D050AA13 ,  4D050AB18 ,  4D050AB33 ,  4D050BA06 ,  4D050BA07 ,  4D050BA10 ,  4D050BA14 ,  4D050BA20 ,  4D050BB01 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050BB11 ,  4D050BC01 ,  4D050BC10 ,  4D050BD02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050CA06 ,  4D050CA13