特許
J-GLOBAL ID：200903065732257993
溶射被膜の後処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩原 康弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-154731
公開番号（公開出願番号）：特開平9-316624
出願日： 1996年05月28日
公開日（公表日）： 1997年12月09日
要約：
【要約】【課題】 素材に熱影響や熱変形を与えることなく溶射被膜の密着強度を向上させるための後処理方法を提供する。【解決手段】 素材の表面に形成した厚さ0.5〜1mmのNi基合金、Co基合金、Fe基合金などの溶射被膜を、被膜の表面から素材と被膜の界面までを電子ビームによって、ビームのオシレーション幅が5〜20mm、ビーム出力が4.0〜10.0kW、ビームモードが三角波または正弦波、周波数が500〜50000Hz、処理速度が100〜2000mm/min、フォーカス度がジャストフォーカス±50mm以上で加熱・溶融する。
請求項（抜粋）：
溶射被膜の後処理方法において、素材の表面に形成した厚さ0.5〜1mmの溶射被膜を、被膜の表面から素材と被膜の界面までを電子ビームによって、ビームのオシレーション幅が5〜20mm、ビーム出力が4.0〜10.0kW、ビームモードが三角波または正弦波、周波数が500〜50000Hz、リサージュ波形の場合には周波数差が10%以上、処理速度が100〜2000mm/min、フォーカス度がジャストフォーカス±50mm以上で加熱・溶融することを特徴とする溶射被膜の後処理方法。
IPC (4件)：
C23C 4/18
, C23C 4/02
, C23C 4/08
, C23C 4/10
C23C 4/18
, C23C 4/02
, C23C 4/08
, C23C 4/10
