改良されたプロセスモニタ方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：小野由己男 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-559418
公開番号（公開出願番号）：特表2002-520836
出願日： 1999年07月12日
公開日（公表日）： 2002年07月09日
要約：

【要約】基板(11)は、プラズマ発光を発生させるプロセスにおいて、真空エンクロージャ(9)内でエッチングされる。該プロセスは、発せられた光がウィンドウ(12)、薄膜バンドフィルタ(13)、および「ファブリ-ペロ」エタン(14)を通過して検出器(15)に達することで、監視される。該検出器(15)からの出力信号は、形状認識技術によって分析され、プロセスの進行測定を導き出す。形状認識は、理論的分析または補正実行から導き出される参照データのデジタルフィルタリングおよび比較を利用することが好ましい。

請求項（抜粋）：

反応種を用いて、または生成種を生成して、プロセスの進行を自動的に決定する方法であって、前記種からの放射の、または前記種が吸収する所定の周波数または周波数帯を連続して監視し、該放射または吸収のレベルに対応するグラフまたは数値の出力を作成し、該出力を所定の出力または予測される傾向と電気的に比較して、プロセス進行の指示を提供することを含む、方法。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 , G01N 21/73 , H01L 21/324 , H01L 21/66

FI (4件)：

G01N 21/73 , H01L 21/324 P , H01L 21/66 P , H01L 21/302 E

Fターム (27件)：

2G043AA03 , 2G043CA02 , 2G043CA07 , 2G043EA06 , 2G043EA10 , 2G043EA13 , 2G043FA03 , 2G043GA04 , 2G043GA08 , 2G043GB21 , 2G043JA03 , 2G043JA04 , 2G043KA09 , 2G043LA01 , 2G043NA01 , 4M106AA01 , 4M106BA05 , 4M106CA48 , 4M106DH03 , 4M106DH12 , 4M106DH32 , 4M106DJ11 , 4M106DJ17 , 4M106DJ20 , 5F004BB03 , 5F004CB02 , 5F004CB16

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