特許

J-GLOBAL ID：200903065746090420

酢酸および/または無水酢酸の製造法

発明者： 籠谷 昌宏 ,  森本 好昭
出願人/特許権者： ダイセル化学工業株式会社
代理人 (1件)： 古谷 馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-154401
公開番号（公開出願番号）：特開平8-020555
出願日： 1994年07月06日
公開日（公表日）： 1996年01月23日
要約：

【要約】【目的】 ロジウム触媒作用カルボニル化方法によって形成される酢酸および/または無水酢酸中の有機ヨウ化物およびカルボニル不純物を低減させた高純度酢酸および/または高純度の無水酢酸の新規な製造法の提供。【構成】 ロジウム触媒、ヨウ化物塩およびヨウ化メチルの存在下、連続的にメタノール、酢酸メチル、ジメチルエーテルの内少なくとも一成分と一酸化炭素を反応させて酢酸および/または無水酢酸を製造する方法において、反応液中のアセトアルデヒド濃度を400ppm以下に保ち、反応を行い、得られる液体酢酸および/または液体無水酢酸を、活性部位の少なくとも1%が銀および/または水銀形に交換されている強酸性カチオン交換樹脂と接触させる。

請求項（抜粋）：

ロジウム触媒、ヨウ化物塩およびヨウ化メチルの存在下、連続的にメタノール、酢酸メチル、ジメチルエーテルの内少なくとも一成分と一酸化炭素を反応させて酢酸および/または無水酢酸を製造する方法において、反応液中のアセトアルデヒド濃度を400ppm以下に保ち、反応を行い、得られる液体酢酸および/または液体無水酢酸を、活性部位の少なくとも1%が銀および/または水銀形に交換されている強酸性カチオン交換樹脂と接触させることを特徴とする高純度酢酸および/または高純度無水酢酸の製造法。

IPC (9件)：

C07C 53/08 ,  B01J 31/30 ,  C07C 51/12 ,  C07C 51/47 ,  C07C 51/54 ,  C07C 51/56 ,  C07C 51/573 ,  C07C 53/12 ,  C07B 61/00 300