特許
J-GLOBAL ID：200903065763247295

メダル研磨機

発明者：
田中 智啓

田中 智啓 について


出願人/特許権者：
株式会社オーイズミ

株式会社オーイズミ について


代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-250592
公開番号（公開出願番号）：特開2000-079266
出願日： 1998年09月04日
公開日（公表日）： 2000年03月21日
要約：
【要約】【課題】 自浄式の汚れ拭き取り機は、十分な拭き取り力が得られず、ペレットを用いた研磨機、湯を用いた洗浄機は、メダル搬送動作に同期させることができない。【解決手段】 水平方向の平行なローラ5a、5bに無端ベルト7を張架して周回路9を形成し、この周回路9の上面部がメダル搬送面11となる第一研磨搬送手段3、第二研磨搬送手段19を構成する。第一研磨搬送手段3の搬送方向末端から落下することで表裏が反転したメダル15を、第二研磨搬送手段19のメダル搬送面11で受ける。第一研磨搬送手段3及び第二研磨搬送手段19におけるメダル搬送面11の一部分に間隙を隔てて布材37を対向配置する。メダル搬送面11によって移送されるメダル15の上面に布材37を押圧する押圧手段41を、第一研磨搬送手段3及び第二研磨搬送手段19に設ける。
請求項（抜粋）：
水平方向の平行なローラに無端ベルトを張架して周回路を構成し、該周回路の上面部をメダル搬送面とした第一研磨搬送手段と、該第一研磨搬送手段と同一の構成を有し該第一研磨搬送手段の搬送方向末端から落下することで表裏が反転したメダルをメダル搬送面で受ける第二研磨搬送手段と、前記第一研磨搬送手段及び該第二研磨搬送手段のメダル搬送面に設けられメダルを該メダル搬送面に係止するメダル係止部と、前記第一研磨搬送手段及び該第二研磨搬送手段における前記メダル搬送面の一部分に間隙を隔てて平行に対向配置した布材と、前記メダル係止部に係止されて前記メダル搬送面によって移送されるメダルの上面に該布材を押圧する押圧手段とを具備したことを特徴とするメダル研磨機。
IPC (3件)：
A63F 7/02 351 ,  A63F 5/04 512 ,  B24B 21/00
FI (3件)：
A63F 7/02 351 Z ,  A63F 5/04 512 M ,  B24B 21/00 Z
Fターム (11件)：
2C088BA94 ,  3C058AA01 ,  3C058AA12 ,  3C058AA15 ,  3C058AA18 ,  3C058AB03 ,  3C058AB08 ,  3C058CA01 ,  3C058CB03 ,  3C058CB05 ,  3C058DA20
引用特許：
審査官引用 (6件)
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