特許
J-GLOBAL ID：200903065763325199
パターン認識方法と認識装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-340814
公開番号（公開出願番号）：特開平6-187450
出願日： 1992年12月22日
公開日（公表日）： 1994年07月08日
要約：
【要約】【目的】 画像から切り出された被識別パターンを基準パターンと比較し同定するパターン認識方法および認識装置に関し、基準パターンとフレームパターンの照合時間を短縮可能なパターン認識装置の提供を目的とする。【構成】 フレームパターン3と基準パターン4の比較に際し基準パターン4との照合位置を複数画素間隔で移動せしめ、基準パターン4との不一致画素が最小になる領域およびその近傍の画素を含む精密照合領域を設定すると共に、精密照合領域の内部においてフレームパターン3と基準パターン4の照合位置を1画素ずつ移動せしめ、精密照合領域内の不一致画素が最小になる領域とその領域の不一致画素数を検出するように構成する。
請求項（抜粋）：
マトリクス状に配列された画素からなり被識別パターンを含むフレームパターンと基準パターンを比較し、不一致画素の最も少ない該基準パターンをもって被識別パターンと同定するパターン認識方法において、フレームパターン(3) と基準パターン(4) の比較に際し該基準パターン(4) との照合位置を複数画素間隔で移動せしめ、該基準パターン(4) との不一致画素が最小になる領域およびその近傍の画素を含む精密照合領域を設定すると共に、該精密照合領域の内部において該フレームパターン(3) と該基準パターン(4)の照合位置を1画素ずつ移動せしめ、不一致画素が最小になる領域およびその領域における不一致画素数の検出を行うことを特徴としたパターン認識方法。
IPC (2件)：
G06F 15/70 455
, G06K 9/62
