特許
J-GLOBAL ID：200903065763702758
スルーホール検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-015763
公開番号（公開出願番号）：特開平6-229940
出願日： 1993年02月03日
公開日（公表日）： 1994年08月19日
要約：
【要約】【目的】 スルーホール孔内のメッキ欠陥有無をプリント基板の基材からスルーホール孔内に漏れる漏光の検出により判定するスルーホール検査方法に関し、欠陥有無の判定精度を向上させ然もその判定を能率良く行い得るようにすることを目的とする。【構成】 移動しつつあるプリント基板の漏光検出側面を投影する光検出手段(ラインセンサー)により光強度を検出し、その光検出手段がスルーホールを走査する毎に、図1のステップ(2)を行う第一段階により確実な無欠陥と場合によっては無欠陥であるかもしれない有欠陥候補とに仕分けし、その有欠陥候補に対して、図1のステップ(3)以降を行う第二段階により欠陥の有無を判別するように構成する。ステップ(4)の領域切り出しはその中心をスルーホール孔領域の中心に合わせて処理のデータ数を少なくし、第二段階も実時間処理で行なえるようにする。
請求項（抜粋）：
プリント基板の一方の面で該基板のスルーホールをマスクして該基板を照明し、該基板を介して該基板の他方の面から放出する光を該他方の面が投影される光検出手段により検出して、該スルーホールの欠陥の有無を判定するスルーホール検査方法であって、前記判定は、前記光検出手段における前記マスクされたスルーホールの投影領域内に、光強度が第1閾値より大である箇所の存在を見いだした際に、該スルーホールを有欠陥候補とする第一段階と、該有欠陥候補のスルーホールを対象に、前記スルーホール投影領域の光強度分布に基づき欠陥の有無を判別する第二段階とを有することを特徴とするスルーホール検査方法。
IPC (2件)：
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