特許
J-GLOBAL ID:200903065768109770
水素ガスセンサ及びその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
平山 一幸
, 海津 保三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-186931
公開番号(公開出願番号):特開2004-028838
出願日: 2002年06月26日
公開日(公表日): 2004年01月29日
要約:
【課題】室温で使用できると共に、高精度で水素ガスを検知することができるようにした、水素ガスセンサ及びその製造方法を提供する。【解決手段】配位高分子金属錯体(R2 dtoaM)を水素を感知する媒体とするセンサ素子11と、このセンサ素子の電気抵抗を測定する測定手段12とから水素ガスセンサ10を構成する。配位高分子金属錯体は、(C3 H6 OH)2 dtoaCu,(C2 H4 OH)2 dtoaCu,H2 dtoaCuなどでよい。この水素ガスセンサ10は、室温で使用できると共に、水素の吸蔵に伴って電気抵抗率が約9桁程度減少するので、高感度で水素ガスの検知を行なうことができる。さらに(C3 H6 OH)2 dtoaCuを用いた水素ガスセンサの製造方法を提供する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
配位高分子金属錯体R2 dtoaM(ここで、Mは金属)を水素を感知する媒体とするセンサ素子と、このセンサ素子の電気抵抗を測定する測定手段と、から構成されていることを特徴とする、水素ガスセンサ。
IPC (2件):
FI (3件):
G01N27/12 C
, G01N27/12 M
, C07F1/08 D
Fターム (17件):
2G046AA05
, 2G046BA01
, 2G046BA02
, 2G046BA09
, 2G046BB02
, 2G046EA02
, 2G046EA04
, 2G046FA01
, 2G046FE09
, 2G046FE11
, 2G046FE12
, 2G046FE25
, 4H048AA01
, 4H048AA03
, 4H048AB91
, 4H048VA56
, 4H048VB10
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