特許

J-GLOBAL ID：200903065782715518

保護化粧料

発明者： 神保 和子 ,  作山 秀 ,  井柳 宏一 ,  安藤 信裕
出願人/特許権者： ポーラ化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-085025
公開番号（公開出願番号）：特開2000-281524
出願日： 1999年03月29日
公開日（公表日）： 2000年10月10日
要約：

【要約】【課題】 敏感肌の人でも安心して使用できる、化粧料を提供する。【解決手段】 1)ポリマー基体に糖類を構成単位に含む基を共有結合した、糖結合ポリマーであって、2)平均分子量がポリエチレングリコール換算で50000以上であることを特徴とする、高分子化合物を化粧料に含有させる。

請求項（抜粋）：

1)ポリマー基体に糖類を構成単位に含む基を共有結合した、糖結合ポリマーであって2)平均分子量がポリエチレングリコール換算で50000以上であることを特徴とする、高分子化合物を含有する化粧料。

IPC (2件)：

A61K 7/00 ,  A61K 7/48

FI (3件)：

A61K 7/00 J ,  A61K 7/00 F ,  A61K 7/48

Fターム (21件)：

4C083AA112 ,  4C083AB032 ,  4C083AB052 ,  4C083AB442 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC122 ,  4C083AC242 ,  4C083AC392 ,  4C083AD091 ,  4C083AD092 ,  4C083AD152 ,  4C083AD191 ,  4C083AD192 ,  4C083AD512 ,  4C083CC05 ,  4C083DD32 ,  4C083EE07 ,  4C083EE10 ,  4C083EE12