特許
J-GLOBAL ID：200903065783373211
有害ガスの浄化剤
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-090694
公開番号（公開出願番号）：特開平7-275646
出願日： 1994年04月06日
公開日（公表日）： 1995年10月24日
要約：
【要約】【目的】半導体製造プロセスから排出される排ガスなどに含まれる三塩化ほう素、塩素、塩化水素、臭化水素、三ふっ化ほう素、六ふっ化タングステン、四ふっ化けい素などの有害な酸性ガスを効率よく除去しうる浄化剤を開発する。【構成】四三酸化鉄またはこれに水を含有させた組成物を用いて成型体としたものを浄化剤とする。成型体とする際、必要に応じ、上記組成物にアルミナ担体やバインダーとして水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどを添加する。
請求項（抜粋）：
有害成分として酸性ガスを含むガスから、該酸性ガスを除去するための有害ガスの浄化剤であって、四三酸化鉄を主成分とする組成物を用いた成型体であることを特徴とする有害ガスの浄化剤。
IPC (3件)：
B01D 53/40
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/68
B01D 53/34 118 Z
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/34 134 A
, B01D 53/34 134 C
