特許
J-GLOBAL ID：200903065802455747
抗菌性シリカゲルの製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大石 征郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-124380
公開番号（公開出願番号）：特開平11-313876
出願日： 1998年05月07日
公開日（公表日）： 1999年11月16日
要約：
【要約】【課題】 植物由来の特定の抗菌性成分を無機質材料に含有させているにかかわらず、その耐水性固定がなされ、水と接触する使い方をしたときに、長期間にわたり抗菌性成分が限定された割合でゆっくりと溶出して抗菌性を発揮する抗菌性シリカゲルを製造する方法を提供することを目的とする。【解決手段】 ケイ酸塩水溶液を酸と混合することによりpH調整して含水ケイ酸ゲルとなし、さらにその含水ケイ酸ゲルを水洗してイオンを除去してから乾燥することによりシリカゲルを製造するにあたり、ケイ酸塩水溶液と酸との混合前、混合時または混合後のゲル化反応完了前に植物由来のポリフェノール化合物系抗菌性成分を系に添加して、該抗菌性成分をシリカゲル中に含有させる。
請求項（抜粋）：
ケイ酸塩水溶液を酸と混合することによりpH調整して含水ケイ酸ゲルとなし、さらにその含水ケイ酸ゲルを水洗してイオンを除去してから乾燥することによりシリカゲルを製造するにあたり、ケイ酸塩水溶液と酸との混合前、混合時または混合後のゲル化反応完了前に植物由来のポリフェノール化合物系抗菌性成分を系に添加して、該抗菌性成分をシリカゲル中に含有させることを特徴とする抗菌性シリカゲルの製造法。
引用特許：
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