特許

J-GLOBAL ID：200903065802497270

モザイク型スパッタリングターゲット

発明者： 高阪 泰郎 ,  石上 隆 ,  藤岡 直美 ,  渡辺 高志 ,  鈴木 幸伸
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 波多野 久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-109930
公開番号（公開出願番号）：特開2001-295038
出願日： 2000年04月11日
公開日（公表日）： 2001年10月26日
要約：

【要約】【課題】スパッタリングにより形成される膜の不純物による汚染を効果的に防止でき、また膜の信頼性を損うパーティクルの発生を効果的に抑制できるモザイク型スパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】略扇形状を有し成分が異なる2種以上のビーム5,6を、その扇形頂部が所定の中心部に位置するように円周上に配列したモザイク型スパッタリングターゲット1aにおいて、ビーム5,6を構成する成分のいずれか1種から成る円板7を中心部に配置し、この円板7が各ビーム5,6の扇形頂部の端面と面接触するように構成したことを特徴とするモザイク型スパッタリングターゲットである。

請求項（抜粋）：

略扇形状を有し成分が異なる2種以上のビームを、その扇形頂部が所定の中心部に位置するように円周上に配列したモザイク型スパッタリングターゲットにおいて、ビームを構成する成分のいずれか1種から成る円板を中心部に配置し、この円板が各ビームの扇形頂部の端面と面接触するように構成したことを特徴とするモザイク型スパッタリングターゲット。

IPC (3件)：

C23C 14/34 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/285

FI (3件)：

C23C 14/34 B ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/285 S

Fターム (21件)：

4K029BD01 ,  4K029CA05 ,  4K029DC07 ,  4K029DC12 ,  4K029DC15 ,  4K029DC22 ,  4M104BB02 ,  4M104BB04 ,  4M104BB13 ,  4M104BB14 ,  4M104BB16 ,  4M104BB17 ,  4M104BB18 ,  4M104DD40 ,  4M104HH20 ,  5F103AA08 ,  5F103BB22 ,  5F103DD28 ,  5F103GG02 ,  5F103HH03 ,  5F103RR10

引用特許：

審査官引用 (4件)

• スパッタリングターゲット
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-209097   出願人：株式会社東芝
• 特開昭60-251272
  
• 特開昭60-251272
  
• 特開昭60-131965