特許

J-GLOBAL ID：200903065806161420

頭部用の化粧料

発明者： 飯田 隆 ,  岩崎 信博 ,  中村 真美 ,  柴谷 順一
出願人/特許権者： ポーラ化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-009734
公開番号（公開出願番号）：特開2001-199844
出願日： 2000年01月19日
公開日（公表日）： 2001年07月24日
要約：

【要約】【課題】 カチオン性物質を含む組成物とアニオン性物質を含む組成物で頭皮・毛髪を同時に処理する手段を提供し、以て毛髪、頭皮の処理を含めた、従来に比べて優れたエステ・トリートメントを得るのに好適な頭部用の化粧料及び/又は化粧料セットを提供する。【解決手段】 1)アニオン性物質を含む化粧料組成物と2)カチオン性物質を含む化粧料組成物とを構成要素とすることを特徴とする、頭部用の化粧料及び/又は化粧料セットを提供する。好ましくは、構成要素である、1)アニオン性物質を含む化粧料組成物と2)カチオン性物質を含む化粧料組成物とを同一容器中に、隔絶された状態で充填し、化粧品とする。

請求項（抜粋）：

1)アニオン性物質を含む化粧料組成物と2)カチオン性物質を含む化粧料組成物とを構成要素とすることを特徴とする、頭部用の化粧料及び/又は化粧料セット。

IPC (2件)：

A61K 7/06 ,  A61K 7/08

FI (2件)：

A61K 7/06 ,  A61K 7/08

Fターム (24件)：

4C083AA112 ,  4C083AA122 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC112 ,  4C083AC122 ,  4C083AC172 ,  4C083AC182 ,  4C083AC352 ,  4C083AC392 ,  4C083AC442 ,  4C083AC472 ,  4C083AC482 ,  4C083AC692 ,  4C083AC902 ,  4C083AD072 ,  4C083AD152 ,  4C083AD162 ,  4C083AD432 ,  4C083AD532 ,  4C083BB53 ,  4C083CC33 ,  4C083DD47 ,  4C083EE07

引用特許：

審査官引用 (6件)

• ヘアトリートメント
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-269419   出願人：株式会社ミルボン
• 特開昭64-087327
  
• エアゾールフォーム型毛髪化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-070348   出願人：ライオン株式会社
• 整髪料組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-361860   出願人：ホーユー株式会社
• 毛髪処理剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-200005   出願人：株式会社資生堂
• 特開昭64-087327