特許
J-GLOBAL ID:200903065812530321

半導体製造装置のレシピ運用システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井上 俊夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-310058
公開番号(公開出願番号):特開平9-129529
出願日: 1995年11月02日
公開日(公表日): 1997年05月16日
要約:
【要約】【課題】 半導体製造装置で用いるレシピの運用を行うにあたり、システムがダウンしにくくかつレシピの管理を容易に行うことができ、また柔軟な運用を図ることのできるレシピ運用システムを提供すること。【解決手段】 例えば熱処理装置Sを夫々コントロールする装置コントローラMにホストコンピュータ4及びグループコントローラ5を別々に接続すると共に、ホストコンピュータ4及びグループコントローラ5を専用の伝送路33で接続し、装置コントローラMの生産レシピの中からオペレータが実行すべきレシピを選択する「装置モ-ド」、グループコントローラ5内の生産レシピの中からホストコンピュータ4の指定により実行すべきレシピを選択する「レシピ管理モ-ド」、ホストコンピュータ4が生産レシピを装置コントローラMに送る「ホストモ-ド」を選択できるようにする。
請求項(抜粋):
複数の半導体製造装置と、各半導体製造装置毎に設けられた装置コントロ-ラと、これら装置コントロ-ラに共通に接続され、生産レシピが格納されたホスト制御手段と、前記装置コントロ-ラとホスト制御手段とを結ぶ伝送路とは別の伝送路により各装置コントロ-ラに共通に接続されると共に、前記ホスト制御手段と直接情報の授受を行なうために専用の伝送路によりホスト制御手段に接続されたレシピ管理手段と、を備え、前記ホスト制御手段は、各装置コントロ-ラに生産レシピを送ると共に、レシピ管理手段に対して前記専用の伝送路を介してレシピの書き込み、読みだし、レシピの履歴の読みだしができるように構成され、各装置コントロ-ラは、ホスト制御手段から送られた生産レシピに基づいて夫々半導体製造装置を運転し、レシピ管理手段は、半導体製造装置で使用された生産レシピの履歴を格納することを特徴とする半導体製造装置のレシピ運用システム。
IPC (4件):
H01L 21/02 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 ,  H01L 21/027
FI (4件):
H01L 21/02 Z ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 Z ,  H01L 21/30 502 Z

前のページに戻る