特許
J-GLOBAL ID：200903065816309204
エネルギー可変型RFQ加速装置およびイオン打込み装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鵜沼 辰之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-197147
公開番号（公開出願番号）：特開平10-041100
出願日： 1996年07月26日
公開日（公表日）： 1998年02月13日
要約：
【要約】【課題】 長時間安定に連続運転できるエネルギー可変型RFQ加速装置および加速装置を応用した大量生産用MeVイオン打込み装置を提供する。【解決手段】 四重極電極2a〜2dに加速電圧を発生させるため、電極固定枠3,4と、導電性の電極固定枠支持部材5,6と、真空容器1の内壁の一部と、可動短絡板7c,7dとで形成されるワンターンコイルのインダクタンスおよびRFQ電極自身の持つ静電容量により所定の高周波の共振回路を形成し、エネルギー可変型RFQ加速装置とする。可動短絡板7c、7dを左右に移動させて共振周波数を変化させる。 真空容器1の内壁の一部を回路として使用し、ワンターンコイルを上下2個に構成したので、絶縁碍子による電力損失や真空度の劣化がなくなり、数百keVから数MeVまでの任意の広いエネルギー範囲で長時間安定して連続運転できる大電流高エネルギーのイオン打込み装置が得られる。
請求項（抜粋）：
真空容器と、対向面を波打たせた第1および第2の四重極電極と、イオンビーム軸方向に少なくとも2個配置され前記第1の四重極電極を取り付けられた第1の電極固定枠と、前記真空容器の一方の側壁に側面を固定され前記第1の電極固定枠と交互に前記イオンビーム軸方向に少なくとも2個配置され前記第2の四重極電極を取り付けられた第2の電極固定枠と、前記第1の電極固定枠を真空容器の上壁,下壁に対して固定する第1の電極固定枠支持部材と、前記第2の電極固定枠の他の側面を前記真空容器の他方の側壁に対して固定し前記真空容器内の空間を上下にほぼ二分する第2の電極固定枠支持部材と、前記第2の電極固定枠支持部材および前記真空容器の上壁または下壁に高周波的に接触しつつ左右方向にそれぞれ移動可能な第1および第2の可動短絡板と、前記上下の空間の少なくとも一方に配置され外部からのエネルギーを送り込む一次結合コイルとからなり、前記真空容器の上壁の一部と第1の電極固定枠支持部材と第1および第2の電極固定枠と第2の電極固定枠支持部材と第1の可動短絡板とが、第1の二次結合コイルを形成し、前記真空容器の下壁の一部と第1の電極固定枠支持部材と第1および第2の電極固定枠と第2の電極固定枠支持部材と第2の可動短絡板とが、第2の二次結合コイルを形成するエネルギー可変型RFQ加速装置。
IPC (5件)：
H05H 9/00
, C23C 14/48
, H01J 37/04
, H01J 37/317
, H01L 21/265
H05H 9/00 B
, C23C 14/48 Z
, H01J 37/04 Z
, H01J 37/317 Z
, H01L 21/265 D
