特許
J-GLOBAL ID:200903065846175563

薄膜形成装置および薄膜形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山川 政樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-296387
公開番号(公開出願番号):特開平10-144664
出願日: 1996年11月08日
公開日(公表日): 1998年05月29日
要約:
【要約】【課題】 シートフィルムへの薄膜形成および基板への薄膜の転写の工程を一連に処理することにより、薄膜の不純物による汚染および薄膜の経時変化を回避するとともに、低コストで大面積の基板にも薄膜を平坦に転写、形成し得るようにする。【解決手段】 シートフィルムに薄膜を形成する装置3と、薄膜を基板に転写する装置4と、シートフィルムを薄膜から剥離する装置6を搬送手段9によって一連に接続し、シートフィルムを自動的に搬送する。また、シートフィルムに薄膜を形成する装置3と薄膜を基板に転写する装置4を一体的に結合し、薄膜への不純物の付着、混入を防止する。
請求項(抜粋):
シートフィルムに薄膜を形成する装置と、前記薄膜を基板に転写する装置と、前記シートフィルムを薄膜から剥離する装置と、これら装置を接続しシートフィルムを自動的に搬送する搬送手段を備え、前記シートフィルムに薄膜を形成する装置と薄膜を基板に転写する装置を一体的に結合したことを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (2件):
H01L 21/31 ,  H01L 21/312
FI (2件):
H01L 21/31 A ,  H01L 21/312 A
引用特許:
審査官引用 (3件)

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