特許
J-GLOBAL ID:200903065847815892

電子線架橋型レジストの現像スカム発生防止方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-243759
公開番号(公開出願番号):特開平5-158238
出願日: 1991年09月24日
公開日(公表日): 1993年06月25日
要約:
【要約】【目的】ガラス板など所定のレジストパターン形成用基板に電子線架橋型レジストを塗布し、プリベーク処理を行なった後にパターン露光を行い、続いて現像処理する段階での現像スカムの発生を防止することを目的とする。【構成】電子線架橋型レジスト本体に対する酸化防止剤の添加量を調整することによりパターン露光現像におけるスカムの発生を防止することを特徴とする電子線架橋型レジストの現像スカム発生防止方法であり、フェノール系酸化防止剤の添加量を0.5〜10wt%以内に調整する。
請求項(抜粋):
電子線架橋型レジスト本体に対する酸化防止剤の添加量を調整することによりパターン露光現像におけるスカムの発生を防止することを特徴とする電子線架橋型レジストの現像スカム発生防止方法。
IPC (4件):
G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 502 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/027
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 特開昭61-156255
  • 特開昭61-254605
  • 特開昭58-076829
全件表示

前のページに戻る