特許

J-GLOBAL ID：200903065855480590

ポジ型フオトレジスト組成物

発明者： 河辺 保雅 ,  佐藤 健一郎 ,  青合 利明 ,  上西 一也
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-047327
公開番号（公開出願番号）：特開平7-261382
出願日： 1994年03月17日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：

【要約】【目的】 高解像力でかつ解像力の膜厚依存性が小さく、現像ラチチュードが広くてかつ現像残渣が発生しにくく、更に、経時による感光剤の析出やミクロゲルの発生がない、極めて優れた保存安定性を有する超微細加工用ポジ型フオトレジスト組成物を提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂及び下記一般式(I)もしくは(II)で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホン酸エステルを含有し、且つ、254nmの紫外線を用いて測定した高速液体クロマトグラフィーにおいて、該一般式(I)もしくは(II)で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホン酸エステルのジエステル成分及び完全エステル成分のパターンが、それぞれ全パターン面積の50%以上及び40%未満であることを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。【化1】

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂及び下記一般式(I)もしくは(II)で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホン酸エステルを含有し、且つ、254nmの紫外線を用いて測定した高速液体クロマトグラフィーにおいて、該一般式(I)もしくは(II)で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホン酸エステルのジエステル成分及び完全エステル成分のパターンが、それぞれ全パターン面積の50%以上及び40%未満であることを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。【化1】ここで、R1〜R11:同一でも異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基もしくはシクロアルキル基を表す。但し、少なくとも1つはシクロアルキル基、R12〜R22:同一でも異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基もしくはシクロアルキル基を表す。但し、少なくとも1つはシクロアルキル基、を表す。

IPC (3件)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027