特許

J-GLOBAL ID：200903065864689698

アクティブマトリクス基板およびその製造方法

発明者： 平川 和子 ,  嶋田 吉祐 ,  金森 謙
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 岡田 和秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-311832
公開番号（公開出願番号）：特開平10-153770
出願日： 1996年11月22日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：

【要約】【課題】アクティブマトリクス基板において、製造過程における引出端子間の短絡を防止できるようにすること。【解決手段】絶縁基板9a上に格子状に設けられる走査線1および信号線2と、両線1,2の交点近傍にそれぞれ設けられるスイッチング素子5と、スイッチング素子5などで凹凸となる絶縁基板9a表面を平らにするよう全体を覆う平坦化用絶縁膜23と、平坦化用絶縁膜23上にマトリクス状に設けられる画素電極4とを備える構造のアクティブマトリクス基板9であって、各線1,2の隣り合う引出端子26,27間の離間領域で絶縁基板9aの直上に、平坦化用絶縁膜23と同一の絶縁膜23aが設けられている。

請求項（抜粋）：

絶縁基板上に格子状に設けられる走査線および信号線と、両線の交点近傍にそれぞれ設けられるスイッチング素子と、スイッチング素子などで凹凸となる絶縁基板表面を平らにするよう全体を覆う平坦化用絶縁膜と、平坦化用絶縁膜上にマトリクス状に設けられる画素電極とを備える構造のアクティブマトリクス基板であって、前記各線の隣り合う引出端子間の離間領域で絶縁基板の直上に、平坦化用絶縁膜と同一の絶縁膜が設けられている、ことを特徴とするアクティブマトリクス基板。

IPC (4件)：

G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/136 500 ,  G02F 1/136 510 ,  H01L 29/786

FI (4件)：

G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/136 500 ,  G02F 1/136 510 ,  H01L 29/78 619 A