特許
J-GLOBAL ID：200903065866425167
光透過部と遮光部とを有するマスク材料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-075888
公開番号（公開出願番号）：特開平5-265174
出願日： 1991年03月15日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：
【要約】 (修正有)【構成】光透過部と遮光部とを有するマスク材料であって、(1)少なくともいずれかの面の表面粗さが平均粗さ(Ra)で0.15μm以上である構成、(2)少なくともいずれかの面の、23°C、50%RHにおけるスムースター値が3mmHg以上である構成、(3)粒径及び/または素材・形状の異なるマット剤を同一面内に2種類以上含有する構成、(4)光透過部と遮光部を有する面と、それとは逆の面の両方にマット剤を含有し、光透過部と遮光部とを有する側に含まれるマット剤と、それと逆の側に含まれるマット剤の量及びまたは粒径及び/または素材・形状が異なる構成を各々とる。【効果】ニュートンリングの発生防止、くっつき防止、すべり性の向上、及び真空密着時間の短縮を達成することができる。
請求項（抜粋）：
光透過部と遮光部とを有するマスク材料であって、少なくともいずれかの面の表面粗さが平均粗さ(Ra)で0.15μm以上であることを特徴とするマスク材料。
IPC (4件)：
G03F 1/04
, B32B 7/02 103
, B32B 7/06
, G03F 1/06
