特許

J-GLOBAL ID：200903065883235959

プラズマエッチングシステム及びプラズマエッチング方法

発明者： 富田 一石 ,  伊東 儀一 ,  平野 基博 ,  野沢 光 ,  松尾 浩光 ,  飯室 俊一 ,  戸澤 茂樹 ,  三浦 豊
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立東京エレクトロニクス株式会社 ,  東京エレクトロン山梨株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-254255
公開番号（公開出願番号）：特開平7-007001
出願日： 1993年10月12日
公開日（公表日）： 1995年01月10日
要約：

【要約】【目的】 長時間の使用においてもシャワー電極のガス噴出孔にポリマーが付着しないプラズマエッチングシステム及びプラズマエッチング方法を提供する。【構成】 プラズマを閉じ込める容器と、この容器内を排気する手段と、基板を保持するチャック電極と、このチャック電極に向き合う多数の細孔を有するシャワー電極と、このシャワー電極および前記チャック電極の間にプラズマ電圧を印加する電源と、前記シャワー電極の細孔に連通し、細孔を介して前記容器内にプラズマ生成用のガスを供給する手段と、前記細孔を通過する前記ガスが質量流量で620kg/m2 /時間以上となるように前記ガス供給手段を制御する手段とを有する。

請求項（抜粋）：

プラズマを閉じ込める容器と、この容器内を排気する手段と、基板を保持するチャック電極と、このチャック電極に向き合う多数の細孔を有するシャワー電極と、このシャワー電極および前記チャック電極の間にプラズマ電圧を印加する電源と、前記シャワー電極の細孔に連通し、細孔を介して前記容器内にプラズマ生成用のガスを供給する手段と、前記細孔を通過する前記ガスが質量流量で620kg/m2 /時間以上となるように前記ガス供給手段を制御する手段と、を有することを特徴とするプラズマエッチングシステム。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00