特許

J-GLOBAL ID：200903065896196898

シクロプロピルアクリル酸誘導体の製造方法

発明者： 仲澤 信 ,  三谷 利道 ,  佐竹 庸一 ,  塩野 万蔵
出願人/特許権者： 株式会社クラレ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-066640
公開番号（公開出願番号）：特開平10-316621
出願日： 1998年03月17日
公開日（公表日）： 1998年12月02日
要約：

【要約】【課題】 シクロプロピルアクリル酸誘導体を、温和な条件下に収率よく、工業的に有利に製造する方法を提供する。【解決手段】 一般式(I)【化1】(式中、R1、R2、R3、R4およびR5はそれぞれ水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。)で示されるシクロプロパンカルバルデヒド誘導体を、塩基の存在下、エステルと反応させることを特徴とする一般式(II)【化2】(式中、R6は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基等を表し、R7は水素原子またはカルボキシル基の保護基を表す。)で示されるシクロプロピルアクリル酸誘導体の製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式(I)【化1】(式中、R1、R2、R3、R4およびR5はそれぞれ水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。)で示されるシクロプロパンカルバルデヒド誘導体を、塩基の存在下、エステルと反応させることを特徴とする一般式(II)【化2】(式中、R1、R2、R3、R4およびR5は前記定義のとおりであり、R6は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、カルボキシル基または保護されたカルボキシル基を表し、R7は水素原子またはカルボキシル基の保護基を表す。)で示されるシクロプロピルアクリル酸誘導体の製造方法。

IPC (4件)：

C07C 69/533 ,  B01J 31/02 ,  C07C 67/343 ,  C07B 61/00 300

FI (4件)：

C07C 69/533 ,  B01J 31/02 X ,  C07C 67/343 ,  C07B 61/00 300