特許
J-GLOBAL ID：200903065902710000

反射防止膜及び反射防止膜の製造方法

発明者：
吉川 裕司

吉川 裕司 について

, 
山谷 正明

山谷 正明 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (3件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-279456
公開番号（公開出願番号）：特開2004-117704
出願日： 2002年09月25日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：
【解決手段】(A)酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化鉄、酸化スズ及びこれらの複合酸化物から選ばれる金属酸化物微粒子、(B)アクリル基、メタクリル基、ビニル基及びスチリル基から選ばれる基を有する化合物及び/又は(C)エポキシ基及びオキセタン基から選ばれる基を2個以上有する化合物を含むコーティング剤の硬化物からなる高屈折率層、(D)内部に空隙を有するシリカ系無機酸化物微粒子、(B)アクリル基、メタクリル基、ビニル基及びスチリル基から選ばれる基を有する化合物及び/又は(C)エポキシ基及びオキセタン基から選ばれる基を2個以上有する化合物を含むコーティング剤の硬化物からなる低屈折率層とが順次積層された反射防止膜。【効果】本発明によれば、高いレベルの反射防止能を有する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
基材上の少なくとも一面に形成される反射防止膜であって、 (A)酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化鉄、酸化スズ及びこれらの複合酸化物から選ばれる1種以上を含む平均粒径1〜500nmの金属酸化物微粒子と、 (B)1分子中にアクリル基、メタクリル基、ビニル基及びスチリル基から選ばれる少なくとも1種の基を1個以上有する化合物及び/又は(C)1分子中にエポキシ基及びオキセタン基から選ばれる少なくとも1種の基を2個以上有する化合物と を主成分とするコーティング剤(1)の硬化物からなる高屈折率層と、 (D)内部に空隙を有する平均粒径1〜500nmのシリカ系無機酸化物微粒子と、 (B)1分子中にアクリル基、メタクリル基、ビニル基及びスチリル基から選ばれる少なくとも1種の基を1個以上有する化合物及び/又は(C)1分子中にエポキシ基及びオキセタン基から選ばれる少なくとも1種の基を2個以上有する化合物と を主成分とするコーティング剤(2)の硬化物からなる低屈折率層と が順次積層されたことを特徴とする反射防止膜。
IPC (3件)：
G02B1/11 ,  B32B7/02 ,  B32B9/00
FI (3件)：
G02B1/10 A ,  B32B7/02 103 ,  B32B9/00 A
Fターム (37件)：
2K009AA05 ,  2K009BB24 ,  2K009CC03 ,  2K009CC09 ,  2K009CC24 ,  2K009CC33 ,  2K009CC42 ,  2K009CC45 ,  2K009DD02 ,  2K009DD05 ,  4F100AA19B ,  4F100AA20C ,  4F100AA21B ,  4F100AA23B ,  4F100AA27B ,  4F100AA28B ,  4F100AK12B ,  4F100AK12C ,  4F100AK21B ,  4F100AK21C ,  4F100AK25B ,  4F100AK25C ,  4F100AT00A ,  4F100CA30B ,  4F100CA30C ,  4F100DE01B ,  4F100DE01C ,  4F100GB41 ,  4F100JB14B ,  4F100JB14C ,  4F100JL11 ,  4F100JN01 ,  4F100JN06 ,  4F100JN18B ,  4F100JN18C ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C
引用特許：
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM