特許
J-GLOBAL ID：200903065911850109

ファイバ型光触媒及びそれを用いた反応装置

発明者：
居橋 渉

居橋 渉 について

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久保田 伸彦

久保田 伸彦 について

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八木 武人

八木 武人 について

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大原 宏明

大原 宏明 について


出願人/特許権者：
石川島播磨重工業株式会社

石川島播磨重工業株式会社 について


代理人 (1件)： 絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-192923
公開番号（公開出願番号）：特開2000-024513
出願日： 1998年07月08日
公開日（公表日）： 2000年01月25日
要約：
【要約】【課題】 光触媒に光が届かないような環境下であっても有用物や有害物を含む流体を処理することができ、しかも処理すべき流体が不透明であっても処理することができるファイバ型光触媒及びそれを用いた反応装置を提供する。【解決手段】 ファイバ本体8が所定の曲率で曲げられることにより、ファイバ本体8の外周より光が漏洩するので、光が届かないような環境下であっても、光触媒層7に十分に光が照射されることにより、有害物の分解除去あるいは有用物の合成等の反応効率が高くなる。しかも有害物や有用物を含む処理流体が不透明であっても十分な光が光触媒層7に照射され、反応が十分に促進される。
請求項（抜粋）：
有害物の分解除去あるいは有用物の合成等を行う光触媒において、光ファイバのファイバ本体の外周に光触媒をコーティングし、このファイバ本体の端部より光を入射させると共にファイバ本体を所定の曲率で曲げてファイバ本体の外部へ光を漏洩させるようにしたことを特徴とするファイバ型光触媒。
IPC (8件)：
B01J 35/02 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/94 ,  B01J 19/24 ,  B01J 21/06 ,  B01J 32/00 ,  B01J 37/02 301 ,  C03C 25/24
FI (8件)：
B01J 35/02 ZAB J ,  B01J 19/24 A ,  B01J 21/06 A ,  B01J 32/00 ,  B01J 37/02 301 Z ,  C03C 25/02 B ,  B01D 53/36 G ,  B01D 53/36 101 A
Fターム (34件)：
4D048AA06 ,  4D048AA22 ,  4D048AB03 ,  4D048BA07X ,  4D048BB08 ,  4D048EA01 ,  4G060AA03 ,  4G060AA20 ,  4G060AC04 ,  4G060AC14 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04B ,  4G069BA29B ,  4G069BA48A ,  4G069CA01 ,  4G069CA02 ,  4G069CA05 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069CA13 ,  4G069CA17 ,  4G069EA03X ,  4G069EA03Y ,  4G069EA07 ,  4G069EC22Y ,  4G069FA02 ,  4G069FB23 ,  4G075AA24 ,  4G075BA04 ,  4G075BA05 ,  4G075BA06 ,  4G075CA32 ,  4G075CA33
引用特許：
審査官引用 (9件)
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