特許

J-GLOBAL ID：200903065914645603

X線分析装置

発明者： 小河 潔
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所
代理人 (1件)： 西岡 義明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-161320
公開番号（公開出願番号）：特開2000-346816
出願日： 1999年06月08日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：

【要約】【課題】 半導体検出器への入射X線量を連続的に可変させ、かつ取付に精度を必要としないX線分析装置を提供する。【解決手段】 平板を複数個平行に並べた平行平板スリット1をスリット支持枠2に挿着して、このスリット支持枠2を入射X線に対して傾斜可変とした。従ってウォーム回転軸7を回転させることによってスリット支持枠2を回転させ、これによって平行平板スリット1を無段階に傾斜させて入射X線制限量を連続して変えることができる。

請求項（抜粋）：

試料から発生するX線を検出する半導体検出器と、この半導体検出器のX線入射窓の前面にX線入射量を制限する手段を備えたX線分析装置において、そのX線入射量を制限する手段として複数の平行平面板からなる平行平板スリットを配設し、かつ該平行平板スリットを傾斜させ得るようにしたことを特徴とするX線分析装置。

IPC (3件)：

G01N 23/225 ,  G01T 1/24 ,  G21K 1/04

FI (3件)：

G01N 23/225 ,  G01T 1/24 ,  G21K 1/04 Z

Fターム (18件)：

2G001AA03 ,  2G001BA05 ,  2G001CA01 ,  2G001EA03 ,  2G001FA01 ,  2G001GA13 ,  2G001JA19 ,  2G001JA20 ,  2G001KA01 ,  2G001SA01 ,  2G001SA30 ,  2G088EE30 ,  2G088FF03 ,  2G088GG21 ,  2G088JJ15 ,  2G088JJ22 ,  2G088LL15 ,  2G088LL28