特許
J-GLOBAL ID：200903065915518060
マスクの異物検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-073017
公開番号（公開出願番号）：特開平9-005252
出願日： 1996年03月28日
公開日（公表日）： 1997年01月10日
要約：
【要約】【課題】低段差異物、半透明異物を検出可能な装置を得る。【構成】透過光を検出する微分干渉検出系と反射光を検出する微分干渉検出系とを設ける。2 つの検出系における回路パターンからの差画像が光学的に零となるようにする。
請求項（抜粋）：
所定のパターンが形成されたマスク上の異物を光学的に検出するマスクの異物検査装置において、前記マスクを透過照明する第1の照明系と、前記マスクを落射照明する第2の照明系と、前記マスクを透過した前記第1の照明系からの照明光を受光し、微分干渉像を形成する第1の受光光学系と、前記マスクで反射された前記第2の照明系からの照明光を受光し、微分干渉像を形成する第2の受光光学系と、前記第1の受光光学系によって形成される微分干渉像を検出する第1の光電変換素子と、前記第2の受光光学系によって形成される微分干渉像を検出する第2の光電変換素子と、前記第1の光電変換素子からの信号と前記第2の光電変換素子からの信号との差もしくは比信号を算出し、この差もしくは比信号に基づいて前記異物を検出する信号処理回路とを有することを特徴とするマスクの異物検査装置。
FI (2件)：
G01N 21/88 E
, G01N 21/88 J
