光学マスクとマスクブランクおよびそれらの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-241011
公開番号（公開出願番号）：特開平7-092655
出願日： 1993年09月28日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：

【要約】【目的】光透過部の透過率の減衰によって生じていた、解像度の低下や転写されたパターンの寸法のばらつきの増大という不具合に対して対策を講じ、位相シフト部との透過率の差の問題を解消するできるようにし、結果として光学マスクによって得られる転写パターンに対して高い解像度を期待することができ、しかも寸法バラツキも極めて低く抑えることが出来るようにする。【構成】透明基板に遮光部と光透過部とそして位相シフト部とを備えた光学マスクにおいて、該光学マスクを使用する際の露光波長に対する透過率に関して、光透過部の透過率が位相シフト部の透過率よりも高いことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

少なくとも、透明基板に遮光部と光透過部とそして位相シフト部とを備えた光学マスクにおいて、該光学マスクを使用する際の露光光の波長に関して、光透過部を透過する透過率が位相シフト部を透過する透過率よりも高いことを特徴とする光学マスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 502 R , H01L 21/30 528

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