特許

J-GLOBAL ID：200903065929355334

水処理装置

発明者： 森泉 雅貴 ,  廣瀬 潤 ,  北山 直樹 ,  近藤 文剛 ,  広 直樹
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (6件)： 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-263007
公開番号（公開出願番号）：特開2004-097932
出願日： 2002年09月09日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：

【課題】水処理装置において、被処理水に対する処理能力の向上を図る。【解決手段】窒素除去用の電解槽100には、膜108、バッキ管109、および、バッキ管109に空気を送るポンプ109Pが備えられている。凝集槽600には、当該凝集槽600内に導入する凝集剤を収容する凝集剤タンク601、導入剤タンク601内の凝集剤を凝集槽600内に送るポンプ602、凝集槽600から排出する被処理水内の固形成分を分離するための膜603、バッキ管604、および、バッキ管604に空気を送るポンプ604Pが備えられている。凝集剤としては、ポリ硫酸鉄等の鉄系化合物、ポリ塩化アルミニウム等のアルミニウム系化合物、ポリグルタミン酸等の生分解性高分子を挙げることができる。電解槽100に導入された被処理水は、リン除去用の電解槽59、凝集槽600、沈殿槽190を経て、外部に放出される。【選択図】 図23

請求項（抜粋）：

被処理水を導入され、電極対を備える電解槽と、 前記電解槽で処理された被処理水を導入され、凝集剤を添加するための凝集剤添加槽と、 前記凝集剤添加槽で処理された被処理水を導入され、当該被処理水内の凝集物を沈殿させるための沈殿槽とを含む、水処理装置。

IPC (6件)：

C02F1/463 ,  C02F1/00 ,  C02F1/46 ,  C02F1/461 ,  C02F1/465 ,  C02F1/56

FI (4件)：

C02F1/46 102 ,  C02F1/00 L ,  C02F1/56 K ,  C02F1/46 101

Fターム (34件)：

4D015BA04 ,  4D015BA05 ,  4D015BA19 ,  4D015BA23 ,  4D015BB05 ,  4D015CA18 ,  4D015CA20 ,  4D015DA03 ,  4D015DA15 ,  4D015DB31 ,  4D015FA01 ,  4D015FA11 ,  4D015FA24 ,  4D061DA08 ,  4D061DB19 ,  4D061DC13 ,  4D061DC14 ,  4D061EA03 ,  4D061EA04 ,  4D061EA06 ,  4D061EB01 ,  4D061EB05 ,  4D061EB14 ,  4D061EB19 ,  4D061EB27 ,  4D061EB28 ,  4D061EB31 ,  4D061EB37 ,  4D061EB39 ,  4D061ED12 ,  4D061FA13 ,  4D061FA14 ,  4D061GC02 ,  4D061GC12