特許

J-GLOBAL ID：200903065938543208

現像液及びこれを用いた現像方法

発明者： 大見 忠弘 ,  玉井 幸夫 ,  川田 聡志 ,  塩出 吉宏
出願人/特許権者： 大見 忠弘 ,  株式会社トクヤマ ,  キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-365431
公開番号（公開出願番号）：特開2000-187336
出願日： 1998年12月22日
公開日（公表日）： 2000年07月04日
要約：

【要約】【課題】 フォトレジストに対する濡れ性に優れ、フォトレジスト表面に現像液が均一に広がるのみならず、フォトレジストの低露光部(低溶解部)における溶解速度をより一層抑制でき、微細なパターンを再現性良く形成することを可能とする。【解決手段】 パルミチン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘニン酸、ペトロセリン酸、オレイン酸、リノール酸、アラキドン酸等の脂肪酸を添加した現像液を用いてレジストパターン12の現像を行い、コンタクトホールパターン13を形成する。

請求項（抜粋）：

脂肪酸を1重量ppm〜5000重量ppmの範囲内の濃度で含む現像液を用い、エキシマレーザ光で露光されたフォトレジストを現像することを特徴とする現像方法。

IPC (3件)：

G03F 7/32 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/32 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/30 569 E ,  H01L 21/30 569 F

Fターム (12件)：

2H096AA25 ,  2H096BA06 ,  2H096BA11 ,  2H096CA14 ,  2H096DA01 ,  2H096EA05 ,  2H096FA01 ,  2H096GA09 ,  2H096GA10 ,  2H096GA13 ,  5F046LA12 ,  5F046LA14