特許

J-GLOBAL ID：200903065943933740

マスク検査装置

発明者： 馬込 伸貴
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 佐藤 正年 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-308238
公開番号（公開出願番号）：特開平5-119468
出願日： 1991年10月29日
公開日（公表日）： 1993年05月18日
要約：

【要約】【目的】 従来の装置では不可能であった位相シフトパターンの形状の欠陥や膜厚むら等を検出できるマスク検査装置を提供する。【構成】 落射照明系(ピンホール板P1 ,レンズL1 ,L2 )と透過照明系(ピンホール板P2 ,レンズL5 ,L6 )を備え、各照明光の波長は位相シフト部(基板1+位相シフトパターン3)からの反射光強度の高い波長λ1 と透過光強度の高い波長λ2 に設定される。少なくとも落射系は共焦点光学系として構成されており、Crパターン2上を含む位相シフトパターン3表面の欠陥(凹凸)が検出される。対物光学系に位相シフトパターン3の厚さに対応する軸上色収差をもたせ、透過系をガラス基板1表面に、落射系を位相シフトパターン3表面に合焦させても良い。

請求項（抜粋）：

基板上に所定のパターンが形成されたフォトマスクを検査対象とするマスク検査装置において、前記フォトマスクのパターン形成面に落射照明光を集光させる照明手段と、前記パターン形成面からの反射光による集光箇所の像を結ぶ対物光学系と、該対物光学系のほぼ結像位置に配置されたピンホール板と、該ピンホール板を通過した前記反射光を検出する反射光検出手段とを備えたマスク検査装置。

IPC (4件)：

G03F 1/08 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/88 ,  H01L 21/027