特許
J-GLOBAL ID:200903065948581744

酢酸ビニルの製造におけるエチレンのアセトキシル化のための流動層法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 浜田 治雄 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-034163
公開番号(公開出願番号):特開平8-040977
出願日: 1995年02月22日
公開日(公表日): 1996年02月13日
要約:
【要約】【目的】 酢酸ビニルの製造におけるエチレンのアセトキシル化のための流動層法を提供する。【構成】 エチレンと酢酸とを1またはそれ以上のインレットを介して流動層反応器中に供給し、、酸素含有ガスを少なくとも1つの更なるインレットを介して流動層反応器中に供給し、酸素含有ガスとエチレンおよび酢酸とを流動層反応器中で互いに接触させると共に、流動層触媒材とも接触させることによりエチレン、酢酸および酸素を反応させて酢酸ビニルを製造するとともに、流動層反応器から酢酸ビニルを回収する。
請求項(抜粋):
エチレンと酢酸とを1またはそれ以上のインレットを介して流動層反応器中に供給する工程と、酸素含有ガスを少なくとも1つの更なるインレットを介して流動層反応器中に供給する工程と、酸素含有ガスとエチレンおよび酢酸とを流動層反応器中で互いに接触させると共に、流動層触媒材とも接触させることによりエチレン、酢酸および酸素を反応させて酢酸ビニルを製造し、流動層反応器から酢酸ビニルを回収する工程とからなる流動層反応器中で酢酸ビニルを製造する方法。
IPC (4件):
C07C 69/15 ,  B01J 23/58 ,  C07C 67/05 ,  C07B 61/00 300
引用特許:
審査官引用 (4件)
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