特許

J-GLOBAL ID：200903065954867099

プラズマCVD及びエッチング用陽極酸化アルミニウム電極

発明者： 門前 和幸 ,  和田 進 ,  松林 雄輔 ,  徳島 忠夫
出願人/特許権者： ニッコーシプロダクツ株式会社
代理人 (1件)： 石井 光正
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-146729
公開番号（公開出願番号）：特開平8-319573
出願日： 1995年05月22日
公開日（公表日）： 1996年12月03日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 アルミニウム合金の介在物の存在による電極の破壊を生じず、かつ、コストアップを招かずに、プラズマ発生用電極の製品寿命のバラツキをなくす。【構成】 電極素材を構成するアルミニウム合金のプラズマ接触面に、気相成長により純アルミニウムが所定の膜厚だけ析出され、さらに全体を陽極酸化処理して皮膜が形成されている。

請求項（抜粋）：

プラズマ入射面の陽極酸化膜が、気相成長された純アルミニウム層で構成されていることを特徴とするプラズマCVD及びエッチング用陽極酸化アルミニウム電極。

IPC (8件)：

C23C 16/50 ,  C23C 14/14 ,  C23F 4/00 ,  C25D 11/04 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46

FI (8件)：

C23C 16/50 ,  C23C 14/14 B ,  C23F 4/00 Z ,  C25D 11/04 E ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H05H 1/46 A ,  H01L 21/302 B