特許
J-GLOBAL ID:200903065980305104

低表面張力硫酸組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 曉司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-212761
公開番号(公開出願番号):特開平7-062386
出願日: 1993年08月27日
公開日(公表日): 1995年03月07日
要約:
【要約】【目的】 表面張力が低くシリコンウエハの洗浄性が良好であり、且つ洗浄後のシリコン表面への悪影響が少ない低表面張力硫酸組成物を提供する。【構成】 下記一般式(I)で表されるフルオロアルキルスルホン酸の3級アンモニウム塩よりなるフッ素系界面活性剤を含有してなる低表面張力硫酸組成物。【化1】R1 -(CX2)n -SO3 -A (I)(式中、R1 は脂環式フルオロアルキル基を、Xは水素原子またはフッ素原子を、nは0〜3の整数、AはNHR23もしくはNHR33Nを表す。ここで、R2は低級アルキル基、R3 は低級アルキレン鎖を表す。)
請求項(抜粋):
下記一般式(I)で表されるフルオロアルキルスルホン酸の3級アンモニウム塩よりなるフッ素系界面活性剤を含有してなる低表面張力硫酸組成物。【化1】R1 -(CX2)n -SO3 -A (I)(式中、R1 は脂環式フルオロアルキル基を、Xは水素原子またはフッ素原子を、nは0〜3の整数、AはNHR23もしくはNHR33Nを表わす。ここで、R2 は低級アルキル基、R3 は低級アルキレン鎖を表す。)
IPC (6件):
C11D 1/14 ,  C09D 9/00 PSS ,  C09K 13/08 ,  C11D 7/34 ,  C23G 1/00 ,  H01L 21/304 341
引用特許:
出願人引用 (4件)
  • 特開平4-325599
  • 特開平4-323300
  • 特開平2-240285
全件表示

前のページに戻る