特許
J-GLOBAL ID:200903065985690804

活性炭触媒反応装置およびこれを用いた排煙脱硫装置並びに脱硫方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 清水 千春
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-164546
公開番号(公開出願番号):特開平8-332345
出願日: 1995年06月08日
公開日(公表日): 1996年12月17日
要約:
【要約】【目的】 活性炭層を用いた前記脱硫方法が有する利点を生かし、かつ装置の大型化や動力消費の増大を招くことなく、被処理ガスから高い効率で亜硫酸ガスを除去することができる活性炭触媒を用いた反応装置およびこれを組み込んだ排煙脱硫装置並びに脱硫方法を得る。【構成】 100volppm以下の亜硫酸ガスと、酸素および水分とを含む被処理ガスから上記亜硫酸ガスを除去する活性炭触媒反応装置18およびこれを組み込んだ排煙脱硫装置であって、接触硫酸化速度Rが5μmol/g/hr 以上である活性炭が充填され、長手方向の側壁を被処理ガスの流れ方向に沿わせて当該流れ方向と交差する方向に複数配設され、かつ側壁と交差する厚さ方向に被処理ガスが通過するように設けられた活性炭触媒層19と、この活性炭触媒層19で活性炭を触媒とする亜硫酸ガスと酸素との接触酸化反応により生成した希硫酸を連続的に排出する希硫酸回収手段21aとを備えてなる。
請求項(抜粋):
100volppm以下の亜硫酸ガスと、酸素および水分とを含む被処理ガスから上記亜硫酸ガスを除去する活性炭触媒反応装置であって、活性炭が充填され、それぞれの長手方向の側壁を上記被処理ガスの流れ方向に沿わせて当該流れ方向と交差する方向に複数配設され、かつ上記長手方向と交差する厚さ方向に上記被処理ガスが通過するように設けられた活性炭触媒層と、この活性炭触媒層で上記活性炭を触媒とする上記亜硫酸ガスと酸素との接触酸化反応により生成した希硫酸を連続的に排出する希硫酸回収手段とを備えてなることを特徴とする活性炭触媒反応装置。
IPC (4件):
B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/50 ,  B01D 53/81
FI (3件):
B01D 53/36 ZAB D ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 123 B
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特公昭43-011085
  • 特開昭59-147625

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