特許

J-GLOBAL ID：200903065989984616

セラミックスシンチレータ材料の製造方法

発明者： 中村 良平 ,  二反田 文雄 ,  清水 英明 ,  田中 清己 ,  稲垣 秀美
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
代理人 (1件)： 大場 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-254397
公開番号（公開出願番号）：特開平6-108045
出願日： 1992年09月24日
公開日（公表日）： 1994年04月19日
要約：

【要約】【目的】 身体頭頂部の断面を画像処理する場合にもアーチファクトを生じることがないX線CT装置用シンチレータ材料を提供する。【構成】 Gd2O2S:Pr系セラミックスシンチレータ材料の製造において、平均粒径が40〜50μmでかつ粒度分布幅(累積の体積粒度分布曲線における90%粒径と10%粒径との差)が50μm以下であるGd2O2S:Pr系シンチレータ原料粉を用いる。

請求項（抜粋）：

Gd2O2S:Pr系セラミックスシンチレータ材料の製造において、平均粒径が40〜50μmでかつ粒度分布幅(累積の体積粒度分布曲線における90%粒径と10%粒径との差)が50μm以下であるGd2O2S:Pr系シンチレータ原料粉を用いることを特徴とするセラミックスシンチレータ材料の製造方法。

IPC (2件)：

C09K 11/00 ,  C09K 11/84 CPD