特許

J-GLOBAL ID：200903066002048872

マーク計測方法及び装置

発明者： 白石 直正
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-065974
公開番号（公開出願番号）：特開平10-260010
出願日： 1997年03月19日
公開日（公表日）： 1998年09月29日
要約：

【要約】【課題】 楔型マークのような周期的マークの像を画像処理する方式でその周期的マークの形状を高精度に計測する。【解決手段】 楔型マークを周期的に配列してなる評価用マークの像WMIを撮像素子15で撮像し、撮像素子15の走査線Sj の内で、楔型マーク像31Iが存在する部分の走査線R1 〜R8 を抽出し、これらの走査線R1 〜R8 の画像信号を周期方向に積算し、積算された画像信号を例えば所定のスライスレベルと比較することによってマーク長を求める。必要に応じて、評価用マーク像WMIと撮像素子15とを画素の配列ピッチの整数分の1だけずらして撮像及び画像信号の積算を行う動作を繰り返す。

請求項（抜粋）：

処理対象の基板上に形成された周期的マークの像を所定の撮像素子を介して撮像し、該撮像によって得られる画像信号を処理して前記周期的マークの形状を計測するマーク計測方法において、前記画像信号の内で、前記周期的マークの像の周期方向において前記周期的マークの像が有る部分の画像信号を抽出し、該抽出された画像信号を前記周期的マークの像の周期方向に積算し、該積算された画像信号より前記周期的マークの像の周期方向に交差する計測方向のマーク長を求めることを特徴とするマーク計測方法。

IPC (3件)：

G01B 11/00 ,  G03F 7/207 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G01B 11/00 H ,  G03F 7/207 H ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 526 A