特許
J-GLOBAL ID：200903066006159369
絶縁膜およびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-330924
公開番号（公開出願番号）：特開平6-016410
出願日： 1991年12月13日
公開日（公表日）： 1994年01月25日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、特性の優れた絶縁膜を提供することを目的とする。【構成】 本発明は一般式(I)で表わされるぺルヒドロポリシラザンを焼成してなる絶縁膜において、焼成後の膜中に窒素を残留させたものである。【化1】【効果】本発明によれば、絶縁膜中に窒素を残留させたので、膜厚が大きく、光の透過率に優れ、膜密度と膜硬度が高いとともに、各種のエッチング液に対して侵されにくく、耐薬品性に優れた絶縁膜を提供することができる。
請求項（抜粋）：
一般式(I)で表わされるぺルヒドロポリシラザンを焼成してなる絶縁膜において、焼成後の膜中に窒素が残留されてなることを特徴とする絶縁膜。【化1】
IPC (2件)：
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