特許
J-GLOBAL ID:200903066009794596
ポリカ-ボネ-ト-ポリシロキサンブロックコポリマ-
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
生沼 徳二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-172166
公開番号(公開出願番号):特開平5-247195
出願日: 1992年06月30日
公開日(公表日): 1993年09月24日
要約:
【要約】【目的】 新規なポリカ-ボネ-ト-ポリシロキサンブロックコポリマ-。【構成】 ポリカ-ボネ-トブロックとビスフェノ-ルシロキサンから誘導されたポリシロキサンブロックとを有する成形用樹脂として適したブロックコポリマ-が提供される。ポリカ-ボネ-トブロックの重量割合(%)は92〜96%であり、ポリシロキサンブロック由来のシロキサンの重量割合(%)は4〜8%である。
請求項(抜粋):
(1)式【化1】[式中、R3 およびR4 は各々水素、ヒドロカルビルおよびハロゲンで置換されたヒドロカルビルの中から独立して選択される]の繰返し単位を有するポリカ-ボネ-トブロックと、(2)式【化2】[式中、R1 およびR2 は各々水素、ヒドロカルビル、およびハロゲンで置換されたヒドロカルビルの中から独立して選択され、Dは約10から約120までの整数であり、Yは水素、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシおよびハロゲンの中から選択される]の中断するポリシロキサンブロックとからなり、前記ポリカ-ボネ-トブロック(1)の重量%が約92〜約96%であり、前記ポリシロキサンブロック(2)のシロキサンの重量%が約4〜8%であるポリシロキサン-ポリカ-ボネ-トブロックコポリマ-。
IPC (11件):
C08G 64/08 NQA
, C08G 77/448 NUK
, C08K 3/36 KKH
, C08K 5/02 KKJ
, C08K 5/42 KKL
, C08L 69/00 LPP
, C08L 83/10 LRT
, C08L 83/10 LRX
, C08L 83/10 LRY
, C08L 69/00
, C08L 27:18
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開平4-268362
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特開平4-268363
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特開平4-268364
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