特許
J-GLOBAL ID:200903066025816559
光学補償シートの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
柳川 泰男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-151728
公開番号(公開出願番号):特開2008-304924
出願日: 2008年06月10日
公開日(公表日): 2008年12月18日
要約:
【課題】配向膜との密着性に優れ、かつ良好な面状を有する光学補償シートを製造する。【解決手段】セルロースエステルフイルム上に、配向膜、および液晶性分子の配向を固定化した光学異方性層がこの順に設けられてなる光学補償シートを製造する方法において、セルロースエステルフイルムの配向膜を塗布する側の表面のみを選択的に、溶媒としてアルコールを含むアルカリ溶液を塗布する工程、アルカリ溶液を洗浄してフイルムの表面から除去する工程、次いでフイルムの表面に配向膜塗布液を塗布する工程、そして配向膜塗布液を乾燥する工程を連続して実施する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
セルロースエステルフイルム上に、配向膜、および液晶性分子の配向を固定化した光学異方性層がこの順に設けられてなる光学補償シートを製造する方法であって、セルロースエステルフイルムの配向膜を塗布する側の表面のみを選択的に、溶媒としてアルコールを含むアルカリ溶液を塗布する工程、アルカリ溶液を洗浄してフイルムの表面から除去する工程、次いでフイルムの表面に配向膜塗布液を塗布する工程、そして配向膜塗布液を乾燥する工程を連続して実施することを特徴とする光学補償シートの製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (49件):
2H149AA02
, 2H149AB01
, 2H149AB16
, 2H149DA02
, 2H149DA12
, 2H149DB03
, 2H149DB16
, 2H149FA02Z
, 2H149FA03Z
, 2H149FA23Y
, 2H149FD25
, 2H191FA22X
, 2H191FA22Z
, 2H191FA30X
, 2H191FA30Z
, 2H191FA31Y
, 2H191FB02
, 2H191FB05
, 2H191FB21
, 2H191FC08
, 2H191FC17
, 2H191FC32
, 2H191FC33
, 2H191FC34
, 2H191FC35
, 2H191GA08
, 2H191GA22
, 2H191HA06
, 2H191HA09
, 2H191HA11
, 2H191HA14
, 2H191KA02
, 2H191LA02
, 2H191LA13
, 2H191LA21
, 2H191PA22
, 2H191PA44
, 2H191PA62
, 2H191PA65
, 2H191PA82
, 2H191PA86
, 2H191PA87
, 4F006AA02
, 4F006AB20
, 4F006AB24
, 4F006AB43
, 4F006CA08
, 4F006DA04
, 4F006EA01
引用特許:
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