特許
J-GLOBAL ID:200903066028558364
レリーフ像の現場での製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小田島 平吉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-111451
公開番号(公開出願番号):特開2001-356491
出願日: 2001年04月10日
公開日(公表日): 2001年12月26日
要約:
【要約】【課題】 一体化されたマスクの直接露光によるレリーフ像の安価な製造方法を提供すること。【解決手段】 (a)第1の剥離可能な支持体(1)、像記録層(2)及接着剤層(3)を示された順序で含んで成る材料を、支持体(7)、紫外線感光性層(6)を含んで成る紫外線感光性材料にラミネーションし、その際接着剤層(3)は紫外線感光性層(6)にラミネーションされ、(b)像記録層(2)を像通りに露光してマスクを形成し、(c)紫外線感光性材料を該マスクを通してフラッド露光し、(d)紫外線感光性材料を現像する、段階を含んで成り、その際剥離可能な支持体(1)は段階(b)、(c)又は(d)の前に除去され、そして段階(a)〜(d)は2カ月より短い期間内に行われるレリーフ像の現場での製造方法。
請求項(抜粋):
下記の段階:(a)第1の剥離可能な支持体(1)、像記録層(2)及接着剤層(3)を示された順序で含んで成る材料を、支持体(7)、紫外線感光性層(6)を含んで成る紫外線感光性材料にラミネーションし、その際接着剤層(3)は紫外線感光性層(6)にラミネーションされ、(b)像記録層(2)を像通りに露光してマスクを形成し、(c)紫外線感光性材料を該マスクを通してフラッド露光し、(d)紫外線感光性材料を現像する、段階を含んで成り、その際剥離可能な支持体(1)は段階(b)、(c)又は(d)の前に除去され、そして段階(a)〜(d)は2カ月より短い期間内に行われるレリーフ像の現場での製造方法。
IPC (7件):
G03F 7/26
, B41C 1/10
, G03F 1/02
, G03F 7/00 502
, G03F 7/00 503
, G03F 7/11 501
, G03F 7/38 501
FI (7件):
G03F 7/26
, B41C 1/10
, G03F 1/02
, G03F 7/00 502
, G03F 7/00 503
, G03F 7/11 501
, G03F 7/38 501
Fターム (29件):
2H025AA00
, 2H025AB02
, 2H025AB03
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025DA17
, 2H025DA35
, 2H025FA01
, 2H025FA03
, 2H025FA14
, 2H084AA14
, 2H084AA16
, 2H084AA25
, 2H084BB04
, 2H084BB13
, 2H084CC01
, 2H084CC05
, 2H095AA00
, 2H096AA00
, 2H096AA02
, 2H096AA08
, 2H096BA01
, 2H096BA09
, 2H096CA20
, 2H096DA10
, 2H096EA02
, 2H096GA02
, 2H096JA02
引用特許:
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