特許

J-GLOBAL ID：200903066046174808

テレフタル酸の水素添加方法

発明者： 加養 篤志 ,  難波 美明
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-257425
公開番号（公開出願番号）：特開2002-145824
出願日： 2001年08月28日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：

【要約】【課題】 テレフタル酸から1,4-シクロヘキサンジメタノールを製造するに際し溶媒を循環使用する。【解決手段】 溶媒及びパラジウム触媒の存在下にテレフタル酸を水素と反応させて1,4-シクロヘキサンジカルボン酸を生成させ、反応生成液に更に水素を反応させて1,4-シクロヘキサンジメタノールを生成させ、反応生成液から1,4-シクロヘキサンジメタノールを分離・回収したのち溶媒をテレフタル酸の水添の溶媒として循環使用するテレフタル酸の水素添加方法において、テレフタル酸の水素添加で生成する1,4-シクロヘキサンジカルボン酸溶液中の1,4-シクロヘキサンジメタノールの濃度を500重量ppm以下にする。

請求項（抜粋）：

溶媒及びパラジウム触媒の存在下にテレフタル酸に水素を反応させて1,4-シクロヘキサンジカルボン酸を生成させる第1水素添加工程、第1水素添加工程で得られた反応生成液に水素添加触媒の存在下に水素を反応させて1,4-シクロヘキサンジメタノールを生成させる第2水素添加工程、及び第2水素添加工程で得られた反応生成液から1,4-シクロヘキサンジメタノールを分離したのち溶媒を第1水素添加工程に循環する循環工程の各工程を含むテレフタル酸の水素添加方法において、第1水素添加工程の反応生成液中の1,4-シクロヘキサンジメタノールの含有量が500重量ppm以下となるようにすることを特徴とする方法。

IPC (6件)：

C07C 51/36 ,  C07C 29/149 ,  C07C 29/86 ,  C07C 31/27 ,  C07C 61/09 ,  C07B 61/00 300

FI (6件)：

C07C 51/36 ,  C07C 29/149 ,  C07C 29/86 ,  C07C 31/27 ,  C07C 61/09 ,  C07B 61/00 300

Fターム (22件)：

4H006AA02 ,  4H006AC11 ,  4H006AC41 ,  4H006AD16 ,  4H006BA23 ,  4H006BA25 ,  4H006BA55 ,  4H006BA61 ,  4H006BB14 ,  4H006BB31 ,  4H006BD33 ,  4H006BD35 ,  4H006BD51 ,  4H006BE20 ,  4H006BJ20 ,  4H006BS20 ,  4H006FC22 ,  4H006FE11 ,  4H039CA40 ,  4H039CA65 ,  4H039CB10 ,  4H039CB20