特許
J-GLOBAL ID:200903066065969978

酸化チタン製膜方法及び色素増感太陽電池素子

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-079178
公開番号(公開出願番号):特開2003-282160
出願日: 2002年03月20日
公開日(公表日): 2003年10月03日
要約:
【要約】【課題】プラスチックフィルムなどの耐熱性のない基板上にも成膜が可能な酸化チタン薄膜の作製方法、及びその方法で作製された色素増感太陽電池素子を提供する。【解決手段】チタニアゾル溶液、チタニアゲル体及びチタニアゾルゲル混合体のいずれかを基板上に塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜を密閉容器内で加熱処理すると同時に加圧処理し結晶化させることにより、酸化チタン薄膜を得ることを特徴とする薄膜形成方法。色素増感太陽電池において、金属酸化物半導体電極として、上記方法で形成した酸化チタン半導体電極を構成要素に持つことを特徴とする太陽電池素子。
請求項(抜粋):
チタニアゾル溶液、チタニアゲル体及びチタニアゾルゲル混合体のいずれかを基板上に塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜を密閉容器内で加熱処理すると同時に加圧処理し結晶化させることにより、酸化チタン薄膜を得ることを特徴とする薄膜形成方法。
IPC (3件):
H01M 14/00 ,  C01G 23/04 ,  H01L 31/04
FI (3件):
H01M 14/00 P ,  C01G 23/04 C ,  H01L 31/04 Z
Fターム (16件):
4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CB05 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G047CD07 ,  5F051AA14 ,  5H032AA06 ,  5H032AS06 ,  5H032AS16 ,  5H032BB02 ,  5H032BB05 ,  5H032EE02 ,  5H032EE16 ,  5H032EE18 ,  5H032HH06

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