特許

J-GLOBAL ID：200903066066934442

基板洗浄装置とその洗浄方法

発明者： 二見 泰雄
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-271486
公開番号（公開出願番号）：特開2004-105848
出願日： 2002年09月18日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：

【課題】洗浄ブラシへの塵埃等の蓄積を防止すると共に、洗浄ブラシの汚染の検出を可能とすることにより、確実に基板の汚れを除去することができる基板洗浄装置とその洗浄方法を提供する。【解決手段】基板2の外周にブラシ洗浄基板3を配設し、第1の洗浄ブラシ7が、回転する上記基板2の表面2A、及び上記ブラシ洗浄基板3の表面3Aに当接して摺動することにより、該第1の洗浄ブラシ7は、上記基板2の表面2Aをスクラブ洗浄するとともに上記ブラシ洗浄基板3によって洗浄される。また、上記ブラシ洗浄基板3を洗浄する第2の洗浄ブラシ12と、上記第2の洗浄ブラシ12の汚れを検出する汚れ検出器14とが上記ブラシ洗浄基板3の適所に配設され、上記第2の洗浄ブラシ12の交換時期を検出する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

回転台に取り付けた基板に洗浄ブラシを当接させて摺動させることにより、上記基板の表面を洗浄する基板洗浄装置において、 上記基板の外周に、上記洗浄ブラシを洗浄するためのブラシ洗浄基板を配設したことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (5件)：

B08B1/04 ,  B08B1/00 ,  B08B3/02 ,  G02F1/13 ,  H01L21/304

FI (5件)：

B08B1/04 ,  B08B1/00 ,  B08B3/02 B ,  G02F1/13 101 ,  H01L21/304 644A

Fターム (23件)：

2H088FA21 ,  2H088FA25 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088HA08 ,  2H088MA20 ,  3B116AA46 ,  3B116AB37 ,  3B116BA02 ,  3B116BA03 ,  3B116BA11 ,  3B116BB22 ,  3B116CC05 ,  3B116CD23 ,  3B201AA46 ,  3B201AB37 ,  3B201BA02 ,  3B201BA03 ,  3B201BA11 ,  3B201BB22 ,  3B201BB92 ,  3B201CC21 ,  3B201CD23